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应从那几个方面进行专利挖掘与布局?,张君伟诉专利复审委员会专利行政纠纷
专利代理 发布时间:2023-07-05 15:06:01 浏览: 次
今天,乐知网小编 给大家分享 应从那几个方面进行专利挖掘与布局?,张君伟诉专利复审委员会专利行政纠纷案
应从那几个方面进行专利挖掘与布局?
一、 应从那几个方面进行专利挖掘与布局? 1、专利的挖掘如何进行 以问题为导向进行专利挖掘;以竞争对手技术为导向进行专利挖掘;以项目研究为导向进行专利挖掘。
2、专利的布局如何进行 路障式布局;城墙式布局;地毯式布局;围栏式布局。
二、企业专利挖掘的具体内容 1。 以问题为导向进行专利挖掘 企业在生产经营过程中会出现各种各样的问题,比如说产品质量上存在缺陷,或者用户体验感觉较差等,这些问题往往直接影响企业的经营发展和市场竞争力。
企业可以这些问题收集、整理并分析,找出存在此类问题是技术瓶颈没有突破还是市场方向把握不准,而后在此基础采取头脑风暴方式进行讨论,厘清解决问题的方法、确定技术的创新点和保护方式,最后由企业管理人员、研发人员和专利代理人综合市场、法律、技术等方面因素,筛选出最具价值并且适合企业发展的技术方案申报专利。
2。 以竞争对手技术为导向进行专利挖掘 俗话说,“知己知彼,百战不殆”,在专利挖掘方面,更应重视竞争对手的技术研究方向,分析竞争对手专利挖掘和布局的重点,而后采取针对性的专利挖掘策略。
企业在进入某一市场时,往往提前进行专利挖掘和布局,我们可以通过分析主要竞争对手专利信息,了解竞争对手技术开发的市场布局重点,而后结合企业自身优势梳理创新点,进而挖掘出能很好保护自己产品技术并能限制竞争对手的专利。
3。 以项目研究为导向进行专利挖掘 企业在进行某一项技术攻关时,往往是以项目研究的形式开展的。
以项目研究为导向,首先要明确项目要突破的技术难点和相对现有技术实现的所有功能,并将实现这一目的每个技术点进行细分,明确每个技术点的技术解决方案的实施路径。
其次,将每个功能的技术要素进行全面分析,确定技术要素是否符合专利申请的新颖性、创造性和实用性要求,是否符合专利的申请范围。
三、企业专利布局的具体内容 专利布局要根据市场的专利情况、自身的专利情况、竞争对手的专利情况以及法律法规等相关因素经过综合考虑后进行合理规划,企业常用的专利布局主要有以下几种[3]。
1。 路障式布局 是指将实现某一技术目标的必需的一种或几种技术解决方案申请专利,形成路障式专利的布局模式。
路障式布局的优点是申请与维护成本较低,缺点是竞争者可以通过回避设计绕开路障。
2。 城墙式布局 是指将实现某一技术目标的所有规避设计方案全部申请专利,形成城墙式专利的布局模式。
城墙式布局可以抵御竞争者侵入自己的技术领地,不给竞争者进行规避设计和寻找替代方案的任何空间。
3。 地毯式布局 是指将实现某一技术目标或产品的所有技术解决方案全部申请专利,形成地毯式专利网的布局模式。
这种模式可以有效限制竞争对手进入,其缺点是成本太高,耗时耗力。
4。 围栏式布局 是指在核心专利由竞争者掌握时,将围绕该技术主题的许多技术解决方案申请专利,形成围栏式专利布局模式。
这种模式非常适合后进入此领域的“技术跟随型”企业。
张君伟诉专利复审委员会专利行政纠纷案
张君伟诉国家知识产权局专利复审委员会专利行政纠纷案一审 北京市第一中级人民法院 行政判决书 原告张君伟,男, 1961年12月4日出生,汉族,台湾省台北市人,现住上海市闵行区联友路128号。
委托代理人吴干权,男, 1956年3月15日出生,汉族,上海三方专利事务所专利代理人,住上海市静安区新闸路888弄140号801室。
委托代理人吴德明,男, 1960年10月3日出生,汉族,元亨利包装科技(上海)有限公司员工,住上海市虹梅南路3333号嘉年别墅C25-1。
被告国家知识产权局专利复审委员会,住所地北京市海淀区北四环西路9号银谷大厦10-12层。
法定代表人廖涛,副主任。
委托代理人路传亮,国家知识产权局专利复审委员会审查员。
委托代理人王丽颖,国家知识产权局专利复审委员会审查员。
第三人石家庄卷烟厂,住所地河北省石家庄市维明南街1号。
法定代表人严金虎,厂长。
委托代理人王忠民,男, 1970年10月2日出生,汉族,石家庄卷烟厂法律顾问,住河北省石家庄市新华区联盟路216号31栋2单元101号。
原告张君伟不服被告国家知识产权局专利复审委员会(简称专利复审委员会)2006年9月5日作出的第8633号无效宣告请求审查决定(简称第8633号决定),于法定期限内向本院提起诉讼。
本院于2007年1月8日受理本案后,依法组成合议庭,并按照法律有关规定通知石家庄卷烟厂作为第三人参加诉讼,于2007年3月5日公开开庭进行了审理。
原告张君伟的委托代理人吴干权、吴德明,被告专利复审委员会的委托代理人路传亮、王丽颖,第三人石家庄卷烟厂的委托代理人王忠民到庭参加了诉讼。
本案现已审理终结。
专利复审委员会第8633号决定系就石家庄卷烟厂对张君伟享有的第01142655.1号发明专利(简称本专利)所提出的无效宣告请求作出的。
专利复审委员会在该决定中认定:1、张君伟在无效宣告程序中对本专利权利要求书的修改不符合《审查指南》的相关规定,专利复审委员会不予接受,仍以本专利授权公告的权利要求书为准。
2、石家庄卷烟厂放弃除附件1、附件8和附件11以外的其它证据,张君伟对上述证据的真实性无异议,对附件8的中文译文无异议。
由于上述证据的公开日均早于本专利的申请日,可以用来评价本专利的新颖性和创造性。
3、本专利符合《中华人民共和国专利法》(简称专利法)第二十六条第三款及《中华人民共和国专利法实施细则》第二十条第一款之规定并具有新颖性。
4、关于本专利的创造性。
专利复审委员会认为,本专利权利要求1所要求保护的技术方案相对于附件8而言,其区别特征在于本专利采用柔印、凹印、丝印的涂布方式将固化型树脂涂布在承印物表面上,而附件8中仅公开了采用具有版面的辊在承印物单张纸上涂布紫外线硬化树脂,但柔印、凹印和丝印都是印刷技术领域中的常规印刷方式,选择上述常规印刷方式来涂布紫外线硬化树脂是本领域技术人员的公知常识。
在附件8的的基础上,本领域技术人员可以选择辊,也可以选择柔印、丝印来代替辊。
这对于本领域技术人员来说是显而易见和不需付出创造性劳动的,因此,权利要求1所要求保护的技术方案相对于附件8与公知常识的结合不具备突出的实质性特点和显著的进步,因而不具备创造性。
从属权利要求2限定部分附加技术特征“贴合成型采用光面贴合成型送入固化定型”也已在附件8中相应地公开,在其引用的权利要求1不具备创造性的情况下,该从属权利要求也不具备创造性。
从属权利要求3限定部分附加技术特征为“贴合成型还可以采用压纹贴合成型送入固化定型”,附件11披露了一种全息图像膜的形成方法,而在基材上形成全息图像膜也属于印刷材料表面制造工艺的一种。
从属权利要求3的附加技术特征已被附件11公开,其在附件11中所起的作用与其在本专利中所起的作用相同,都是用于使涂层表面有一个模具压痕层,压痕层的光栅密度和距离与原来涂层产生光栅效应,在光线下可以产生特殊的光学效果。
由此可知在附件8的基础上结合附件11和本领域的公知常识得出权利要求3所要求保护技术方案,对本领域的技术人员来说是显而易见的。
因而,在其引用的权利要求1不具备创造性的情况下,从属权利要求3不具备创造性。
据此,专利复审委员会作出第8633号决定,宣告本专利权无效。
张君伟不服,在法定期限内向本院提起行政诉讼。
其诉称:1、附件8与本专利权利要求1相比,区别特征有两点。
其一为,附件8采用辊式涂布方式,而本专利采用柔印、丝印、凹印的涂布方式。
其二为,附件8直接采用树脂胶片压光的覆膜工艺而本专利的成型工艺上位概念是有关印刷表面的加工处理成型,下位概念是有关印刷表面的贴合成型。
由于存在上述区别特征,以及固化树脂涂布时印刷压力不同,因而造成两者的技术效果也不同,其中附件8为单面的镜面效果,无光栅效果,而本专利具有光栅效果,所以权利要求1具有创造性。
2、本专利权利要求2的附加技术特征为光面贴合成型,在本专利说明书中对光面贴合成型的解释为采用以模具对树脂进行加工处理成型,模具可以是膜也可以是滚筒,因压力形成与模具相对应的镜面效果。
附件8与本专利权利要求2相比,两者方案是不同的,效果也是不同的,所以权利要求2也具有创造性。
3、附件11公开一种全息图像定位包装膜的产品,所述的压纹成型不是采用模具完成,而是将丝印的复合膜滚压后固化经剥离到印刷到蒸镀完成。
本专利权利要求3中的附加技术特征为压纹贴合成型,在说明书中的解释为采用模具进行加工处理成型,因压力形成与模具相对应的压纹效果。
所以两者方案不同,前者必须要有蒸镀,而本专利进行压纹贴合成型,技术效果不同,应用领域不同。
所以权利要求3也具有创造性。
综上,请求法院判令撤销第8633号决定,维持本专利有效。
被告专利复审委员会辩称:我委坚持关于本专利创造性的审查理由。
需要强调的是,如果本专利权利要求书中采用了上位概念的限定方式,而在说明书实施例中给出了该上位概念的具体下位概念,不能将涵盖下位概念的上位概念解释成说明书实施例中公开的具体下位概念。
张君伟在起诉书中所强调的有关本专利与附件8和附件11的不同点并没有在其专利权利要求所要求保护的技术方案中予以限定,因此不应当予以考虑。
综上所述,第8633号决定认定事实清楚、适用法律法规正确、审理程序合法、审查结论正确,张君伟的诉讼理由不能成立,请贵院驳回原告请求,维持专利复审委员会的第8633号决定。
第三人石家庄卷烟厂述称,同意专利复审委员会的意见,请求驳回张君伟的诉讼请求。
本院经审理查明: 本案涉及国家知识产权局于2004年12月22日授权公告的名称为“印刷材料表面制造工艺”的01142655.1号发明专利权(即本专利),其申请日为2001年12月14日,专利权人为张君伟。
本专利授权公告的权利要求书如下: “1、一种印刷材料表面制造工艺,包括对承印物(1)采用柔印、凹印、丝印的涂布方式将固化型树脂涂布(2)在承印物的表面上,选择加工处理成型(3),进行固化定型(4),最后到剥离成品(5)工艺步骤完成,其特征在于选择加工处理成型在承印物表面采用贴合成型送入固化定型。
2、如权利要求1所述的印刷材料表面制造工艺,其特征在于贴合成型采用光面贴合成型送入固化定型。
张喜田诉专利复审委员会专利行政纠纷案
张喜田诉国家知识产权局专利复审委员会专利行政纠纷案一审 北京市第一中级人民法院 行政判决书 原告张喜田,男,汉族,1947年6月21日出生,吉林省天风制药有限公司总经理,住吉林省长春市朝阳区立信胡同27-2号。
委托代理人耿慕白,北京金之桥知识产权代理有限公司专利代理人。
委托代理人李春t,男,汉族,1974年12月31日出生,北京金之桥知识产权代理有限公司职员,住北京市朝阳区工体西里5楼3门302号。
被告国家知识产权局专利复审委员会,住所地北京市海淀区北四环西路9号银谷大厦10-12层。
法定代表人廖涛,副主任。
委托代理人李彦涛,国家知识产权局专利复审委员会审查员。
委托代理人徐洁玲,国家知识产权局专利复审委员会审查员。
第三人石家庄制药集团欧意药业有限公司,住所地河北省石家庄市辖区中山西路276号。
法定代表人王瑞琦,总经理。
第三人石药集团中奇制药技术(石家庄)有限公司,住所地河北省石家庄市新石北路368号。
法定代表人蔡东晨,董事长。
两第三人之共同委托代理人李红团,女,汉族,1966年9月19日出生,石家庄制药集团欧意药业有限公司法律顾问,住北京市海淀区龙翔路2楼909号。
两第三人之共同委托代理人孙京国,男,汉族,1962年11月30日出生,石药集团中奇制药技术(石家庄)有限公司职员,住河北省石家庄市桥西区新石南路247号7栋3单元401室。
原告张喜田不服被告国家知识产权局专利复审委员会(简称专利复审委员会)于2006年4月1日作出的第7955号无效宣告请求审查决定(简称第7955号决定),于法定期限内向本院提起行政诉讼。
本院于2006年7月6日受理后,依法组成合议庭,并通知石家庄制药集团欧意药业有限公司(简称欧意公司)、石药集团中奇制药技术(石家庄)有限公司(简称中奇公司)作为第三人参加本案诉讼,于2006年9月22日公开开庭进行了审理。
原告张喜田及其委托代理人耿慕白、李春t,被告专利复审委员会的委托代理人李彦涛、徐洁玲,第三人欧意公司和中奇公司的委托代理人李红团、孙京国到庭参加了诉讼。
本案现已审理终结。
第7955号决定系专利复审委员会针对欧意公司、中奇公司就张喜田所拥有的00102701.8号发明专利(简称本专利)所提出的无效宣告请求而作出的。
专利复审委员会在第7955号决定中认定:1。关于证据。
证据1是第95192238.6号中国专利说明书,其公告日晚于本专利的申请日,本身不能用于评价本专利的创造性。
但欧意公司、中奇公司于口头审理时提交了证据1所述专利的申请公开说明书(简称对比文件),且张喜田对其真实性无异议,考虑到欧意公司、中奇公司在提出无效宣告请求时已经提交了其相应的授权文本即证据1,故专利复审委员会不将对比文件视为新证据,其可以用于评价本专利创造性。
反证2的真实性予以认可。
2。本专利符合专利法第三十三条的规定。
3。本专利符合专利法第二十六条第四款的规定。
4。关于专利法第二十二条第三款。
(1)关于权利要求1。
本专利权利要求1涉及一种氨氯地平对映体拆分的方法,其使用了手性助剂DMSO-d6或含DMSO-d6的有机溶剂,对比文件也公开了一种氨氯地平对映体的拆分方法,其使用的手性助剂为DMSO或含有它的溶剂,两者比较,其区别仅在于所用的手性助剂不同。
就所解决的技术问题而言,从本专利说明书以及反证2中可以看出,本专利的技术方案可以达到比对比文件更高的光学纯度和收率。
显然,本专利所要解决的技术问题必须依赖于使用DMSO-d6或者含有DMSO-d6的有机溶剂替换对比文件中的DMSO或含有DMSO的溶剂,但是,对于本领域普通技术人员同样显然的是,要想达到上述的技术效果,DMSO-d6不论是单独、还是含在有机溶剂中都必须以一定量使用,即其含量必须达到一定的范围,并非任意含量(例如痕量)的DMSO-d6都能够解决上述技术问题。
由于本专利权利要求1所述的技术方案中并没有对DMSO-d6的含量提出要求,而本专利权利要求1相对于现有技术所解决的技术问题要求DMSO-d6的含量必须达到一定的范围,导致权利要求1实际上包括了不能够解决所述技术问题的技术方案,该部分技术方案相对于现有技术不具备突出的实质性特点和显著的进步,因此权利要求1不符合专利法第二十二条第三款规定的创造性。
(2)关于权利要求2。
权利要求2是权利要求1的从属权利要求,所附加的技术特征为将DMSO-d6与氨氯地平的摩尔比限定为≥1,并且限定了溶剂的种类,其解决的技术问题是提高了氨氯地平对映体的光学纯度和收率。
对比文件没有记载使用DMSO-d6进行拆分的技术内容,也没有记载用于拆分氨氯地平的DMSO-d6的用量,更加没有给出采用DMSO-d6替换DMSO作为手性助剂可以提高拆分对映体的光学纯度的启示。
本领域公知的是,现有技术中DMSO-d6的用途主要在于核磁共振分析领域。
对比文件的各实施例中,光学纯度多数在97%到98.5%之间,仅实施例9的光学纯度为>99.5%,而本专利的光学纯度多在99.5%以上,反证2进行的对比试验则可以更加清晰地反映出本专利在效果上的优势,从总体上看,本专利的技术方案是有利于提高光学纯度的,因而也是有积极效果的。
因此权利要求2具有创造性。
(3)关于权利要求3。
权利要求3从属于权利要求1或2,其引用权利要求1所形成的技术方案也没有对所使用的DMSO-d6的含量进行限定,同样不具备创造性;其引用权利要求2所形成的技术方案由于是权利要求2的从属权利要求,在权利要求2具有创造性的前提下,这一部分技术方案具备创造性。
基于上述理由,专利复审委员会作出第7955号决定,宣告本专利权利要求1和权利要求3引用权利要求1的部分无效,维持权利要求2和权利要求3引用权利要求2的部分有效。
原告张喜田不服,向本院提起行政诉讼,其诉称:1、对比文件是超过举证期限提交的新证据,与证据1属于两份不同的证据,被告采用该证据违反专利法实施细则和《审查指南》的规定。
2、本专利权利要求1中包含了两个以上技术方案,应该分别予以审理。
第7955号决定中仅对说明书“含DMSO-d6的有机溶剂中”的一个优选方案进行了评述,没有对其它方案进行审理,属于漏审;在无效程序中,欧意公司、中奇公司及我方都没有提及DMSO-d6/氨氯地平≥1(摩尔比)的条件。
被告在没有证据的情况下错误地拆解权利要求1,违反了请求原则。
3、第7955号决定对权利要求的认定错误。
权利要求1公开“……或结合一个DMSO-d6的(R)-(+)-氨氯地平的L-酒石酸盐而分别沉淀”,这清楚说明反应需要生成“沉淀”,沉淀反应中加入足量沉淀剂(对于本专利就是DMSO-d6)是公知常识。
被告认定权利要求1中未对DMSO-d6含量进行限定是错误的。
而且从说明书可知DMSO-d6/氨氯地平≥1(摩尔比)仅是优选方案之一而不是全部。
权利要求1创造性的关键不在于DMSO-d6/氨氯地平的摩尔比,而在于现有技术是否给出了使用DMSO-d6的技术启示。
现有技术对DMSO-d6的认知是用于核磁共振分析领域,没有公开使用DMSO- d6作为手性助剂对氨氯地平拆分,也没给出技术启示。
故此本专利的权利要求1符合专利法关于创造性规定。
被告以“权利要求1实际上包括了不能解决所述技术问题的技术方案”为由判定权利要求1不具创造性没有法律依据。
权利要求2、3都具备创造性。
综上,原告请求法院依法撤销第7955号决定。
被告专利复审委员会辩称:1、对比文件虽然是在无效宣告请求之日起一个月后提交的,但欧意公司、中奇公司在举证期限内提交过该专利相应的授权文本,两个文本在内容上是相关联的,所采用部分的文字记载在两个文本中是相同的,原告在收到该证据的授权文本时已经获知了该公开文本中实质记载的内容,并未造成所谓对原告的“突然袭击”,对比文件是完善证据的补充性证据,而不是新证据,被告采用该证据符合法律规定。
2、判断一项权利要求是否具备创造性,应当按照《审查指南》规定的方法来进行判断。
对于一项概括而成的发明专利权利要求,如果该权利要求涉及的部分技术方案不具备突出的实质性特点和显著的进步,则该权利要求就不具备创造性。
为了实现本专利所要解决的技术问题,DMSO-d6不论是单独还是含在有机溶剂中都必须以一定量使用,并非任意含量的DMSO-d6都能解决技术问题,而权利要求1并没有对其含量提出要求,因此权利要求1实际上包含了不能够解决所述技术问题的技术方案。
在评价发明是否具有显著的进步时,主要应当考虑发明是否具有有益的技术效果。
在权利要求1概括的技术方案中包含了不能解决所述技术问题、达到所述技术效果的技术方案,被告认为权利要求1不具备创造性符合法律规定,也没有违反请求原则。
被告作出的第7955号决定认定事实清楚、适用法律正确、审查程序合法,请求法院予以维持。
第三人欧意公司、中奇公司未提交书面意见陈述,其在庭审中均表示:第7955号决定中关于权利要求1无效的结论是正确的,但用DMSO-d6替换DMSO是显而易见的,反证2不能用来评价本专利的发明效果,DMSO-d6:氨氯地平≥1是公知常识,对比文件中也已公开,因此本专利权利要求2、3也不具有创造性,应当全部被宣告无效。
本院经审理查明:
应从那几个方面进行专利挖掘与布局? 的介绍就聊到这里。
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