专利申请文件中的发明人是什么，发明专利权利要求书中的上位和下位怎么区别

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发明专利权利要求书中的上位和下位怎么区别？

上位和下位的区别，举个例子，例如金属是上位概念，铜就是下位概念了。

专利的质量一般与技术交底的创造性有关，更重要的是，代理人对专利文件的撰写质量。

权利要求是专利文件中最为重要的部分，决定了专利的保护范围。

为了实现高质量专利，代理人在撰写权利要求的过程中需要注意的问题有很多，包括语言文字的描述，技术方案的逻辑，技术要点的布局等，比较常见和明显的是在撰写权利要求之前，对权利要求的上下位的把握的确定。

上位是指在权利要求撰写中，通过对技术特征或者技术名词的概括，以实现扩大保护范围的目的。

例如，将“螺丝钉”上位成“紧固件”，将“通过螺丝钉固定”上位成“固定连接”等。

与上位相对应，在权利要求撰写中，也有下位的概念。

下位是指将权利要求中较为概括的上位概念，具体到描述较为确切的技术特征或者技术名词，以实现更加贴近交底书内容、更加确切的描述发明人的技术方案的目的。

例如，将“控制系统”下位为“驻车制动装置”，将“通过控制系统进行制动”下位为“控制驻车制动装置动作，加紧刹车片，进行制动”。

总之，上位用于扩大保护范围，下位可以贴近技术方案，保护技术方案的众多细节。

但是通常在权利要求的撰写过程中，上位容易导致权利要求的创造性降低，有时候还会将现有技术纳入权利要求的范围，这样就有创造性不足以授权的风险。

下位容易导致权利要求的保护范围过小，权利要求所保护的技术特征，容易被规避掉。

因此，上位和下位的程度把握决定了专利撰写的质量。

上位和下位都是代理人为了满足客户的需求进行的合理的撰写技巧，因此撰写权利要求之前，充分了解客户需求，才能确定权利要求的撰写层次。

上位概念不会破坏下位概念的创造性和新颖性。

因为上位的保护范围广，上位概念的技术特征如果能写全面、明确的情况下，可以首选上位概念，容易形成基础专利。

最好的基础专利是别人没有可以绕开的方法。

此时如果他人在此基础上继续申请专利，申请下位概念的专利，此时可以授权，只是不能实施，因为其专利的原型是我方的基础专利，其要征得我方的同意才能开始实施。

但是相对的，上位概念不容易形成创造性，判断创造性的时候，需要考虑在解决相同的技术问题的前提下，看现有技术对发明有没有技术启示。

另外，保护范围大也存在更容易出现被无效的风险。

所以没有单纯的好或者不好，还是要根据具体问题，做专业化分析。

上位概念下位概念有点难界定，可以查科技术语工具书，辞源进行分析大小，能说服自己抠字眼。



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