集成电路布图设计保护司法实践中的问题，集成电路布图设计保护条件

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集成电路布图设计保护司法实践中的问题

1、布图设计专有权的范围及依据：复制件、图样、样品记载的布图设计不一致时，如何来确定专有权的效力？不同形式载体的效力？能否选择某一载体为准？ 《条例》第2条规定，“布图设计”，是指“集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上的元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置”。

布图设计专有权保护的对象就是这一“三维配置”。

在南京市中院人民法院处理的案件中，法官也认为“布图设计专有权的保护范围应当以布图设计授权文件所确定的三维配置为准”。

目前，从立法和司法实践来看，布图设计的保护范围就是“三维配置”应该没有什么争论。

问题是，如何来确定这个“三维配置”？ “三维配置”实际以一种信息状态存在于世，不像其他有体物占据一定空间，只有当它附着在一定的载体上才可为人所感知。

布图设计在集成电路芯片中表现为一定的图形。

同样，在掩模版上，布图设计也是以图形方式存在的。

计算机辅助设计技术的发展，使布图设计可以数字化代码的方式存储在磁盘或磁带中。

在计算机控制的离子注入机或者电子束曝光装置中，布图设计也是以一系列的代码方式存在。

人们可通过一定的设备感知这些数字化代码信息。

在不同的载体上，布图设计可以不同的信息状态存在。

因此，确定布图设计保护范围的过程，实际上就是观察者根据载体记载的信息来确定“三维配置”的过程。

那么，在司法实践中，哪些载体可以作为确定“三位配置”的依据？ 集成电路布图设计专有权依登记而产生，美国半导体芯片法、日本集成电路芯片法、WIPO关于集成电路的知识产权条约、欧共体指示都规定 只要在世界任何地区进行商业利用就可享有法律保护，但必须在首次商业利用之日起两年内按规定要求进行登记注册。

我国《条例》的规定与此相同，《条例》第8条规定布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不受本条例保护。

第17条规定布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。

也就是说，未按照规定进行登记的，权利人对集成电路布图设计不享有专有权。

申请人在集成电路布图设计登记部门办理登记手续时必须提交申请书、有关记载集成电路布图设计的文件和实物、有关申请者是创作人的证明材料等。

《条例》第16条规定申请布图设计登记，应当提交：(1)布图设计登记申请表；(2)布图设计的复制件或者图样；(3)布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品；(4)国务院知识产权行政部门规定的其他材料。

根据上述权利取得的登记程序，申请人申请登记时提交的布图设计的复制件或者图样、含有该布图设计的集成电路样品，这些都是依法登记的布图设计载体，复制件、图样、样品中展示或含有的布图设计，即含有的“三位配置”是权利人获得授权的布图设计，对其享有专有权。

权利人主张权利时，应该依据登记备案的载体来确定其授权的布图设计，即根据登记备案的载体来确定“三维配置”。

布图设计与其他知识产权的登记制度不同，根据登记制度的规定，申请人在进行登记时提交了三种形式的载体，即复制件或图样的纸质载体、电子载体以及集成电路样品的实物载体。

这三种形式的载体，因为均经过登记备案，因此他们的法律效力应该是相同的，均可以用来确定权利范围，并与侵权布图设计进行对比。

从目前的司法实践来看，法院也认为这三种载体的效力是相同的，在深圳中院和南京中院受理的案件中，法院均向国家知识产权局调取了上述三种形式的载体，用以确定原告享有专有权的布图设计。

而且，南京中院在该案判决中，法院进一步确认，权利人所提交的布图设计的复制件或者图样，或者提交的集成电路样品均可用于确定这种三维配置。

复制件或者图样附具的文字说明，可以用来解释布图设计。

需要注意到的是，如果这三种载体记载的布图设计不相同，或者由于载体形式不同导致表现出来的布图设计有差异，权利是否有效？权利人应该以哪一个载体记载的布图设计为准来确定布图设计的范围呢？ 《实施细则》规定，提交的复制件、图样、样品不一致的，登记申请不予受理。

在申请过程中，审查部门发现申请人提交的复制件、图样、样品在记载的布图设计不一致时，可以依照《实施细则》的规定不予受理。

鉴于布图设计登记的审查形式和技术要求，审查人员无法就申请人提交的各种载体记载的布图设计是否一致进行全面的实质性审查。

尤其在申请人同时提交了样品的情况下，审查人员更不会对样品记载的布图设计与纸质或电子形式的布图设计图样或复制件进行一致性审查。

因此，在侵权案件审理中如发现登记时提交的复制件、图样、样品记载的布图设计不一致时，如何来确定专有权的效力？即能否依据《实施细则》以复制件、图样、样品不一致为由，否定该集成电路布图设计专有权呢？根据《实施细则》第29条关于撤销程序的规定，布图设计登记公告后，发现登记的布图设计专有权不符合集成电路布图设计保护条例第2条第1、2项、第3条、第4条、第5条、第12条或者第17条规定的，由专利复审委员会撤销该布图设计专有权。

可见目前《实施细则》已将复制件、图样、样品记载的布图设计不一致列入撤销的理由，可以直接以复制件、图样、样品记载的布图设计不一致为由请求撤销专有权。

而且，《实施细则》第17条第1项中的复制件、图样和样品不一致属于不予受理的情形，《实施细则》第18条进一步规定，这种情形不可补正。

因此，可以认为，申请人无法通过提交具备一致性的替换载体来满足授权要求。

这样笔者得出一个初步的结论是，不同形式的载体之间不一致时，权利人并不能够在其中进行选择，问题是，法院是否有权在查明存在不一致的情形时，直接经行认定布图设计专有权无效？从目前法律的规定看，由于职能分离，法院还不能够这样做。

而令人尴尬的是，目前的法律制度中规定的撤销是职能部门依据职权启动的行政行为，他人无法以复制件、图样、样品记载的布图设计不一致为由，通过向专利复审委员会提出申请来撤销其专有权，从而也就无法挑战原告的专有权之效力。

值得注意的是，虽然根据《条例》和《实施细则》集成电路布图设计专有权撤销的撤销是专利复审委员会依职权启动的，但是，最高人民法院在《通知》第4条规定“人民法院受理的侵犯布图设计专有权纠纷案件，被告以原告的布图设计专有权不具有足够的稳定性为由要求中止诉讼的，人民法院一般不中止诉讼”。

这虽是目前布图设计侵权案件审理程序中针对中止诉讼的规定，但从中似乎可以分析出，其所指之“以原告的布图设计专有权不具有足够的稳定性为由要求中止诉讼的”情形应该是被告向专利复审委员会提出了撤销该布图设计专有权的请求。

另外，专利复审委员会的实践已向公众打开了提出撤销集成电路布图设计专有权的大门。

在(美国)安那络公司诉上海贝岭股份有限公司侵犯集成电路布图设计专有权纠纷案中，贝岭公司在接到美国安那络公司的起诉状及有关证明材料后，先于2004年3月25日以权利人的登记超过了首次商业利用2年，按照集成电路布图设计保护条例第17条的规定，国家知识产权局对该布图设计应不予登记为由，向上海市第一中级人民法院对美国安那络公司提起反诉，要求撤销登记号为BS。03500021。X的ADE7755产品的布图设计专有权。

而法院则认为，反诉撤销登记号为BS。03500021。X的ADE7755产品的布图设计专有权的要求不属于人民法院的受理范围。

2005年2月5日，上海贝岭股份有限公司向专利复审委员会提出了撤销美国安那络公司的上述布图设计专有权。

2006年6月，专利复审委员会向美国安那络公司(权利人)及上海贝岭股份有限公司(提意见人)发出了“集成电路布图设计专有权进入撤销程序通知书”，启动了对登记号为BS。03500021。X的ADE7755产品的布图设计专有权的撤销审查。

2006年9月12日，美国安那络公司与上海贝岭股份有限公司达成和解，2006年9月20日上海市第一中级人民法院调解结案。

可见，无论是最高法院的态度还是专利复审委员会的实践，都表明当复制件、图样、样品记载的布图设计不一致时，可通过启动撤销程序，以确定专有权的效力。

权利人或法院不应在复制件、图样或样品中选择某种载体来确定集成电路布图设计专有权。

2、形式审查下授权之布图设计专有权行使时，被告如果挑战布图设计专有权的稳定性(提起撤销请求)，法院是否中止审理？ 最高人民法院在《通知》第4条规定“人民法院受理的侵犯布图设计专有权纠纷案件，被告以原告的布图设计专有权不具有足够的稳定性为由要求中止诉讼的，人民法院一般不中止诉讼”。

根据这一规定，是否可以当然得出以下结论：在布图设计侵权案件中，被告提出撤销申请并请求中止诉讼程序，法院原则上应该不予准许。

笔者认为，答案应该是否定的，或者至少不应该如此简单而机械。

对于这一原则性规定，如何理解和适用，需要进一步分析。

民事诉讼中的诉讼中止是指在诉讼进行过程中，因发生某种法定中止诉讼的原因，诉讼无法继续进行或不宜进行，因而法院裁定暂时停止诉讼程序的制度，中止诉讼的原因一旦消除即恢复诉讼。

而被告认为“原告的布图设计专有权不具有足够的稳定性”只是被告在诉讼中的主张或观点，显然不能直接作为申请法院中止案件诉讼的理由。

只有当被告提供足够证据和理由，认为原告的布图设计专有权缺乏稳定性、不符合授权条件，向专利复审委员会申请撤销布图设计并启动撤销程序时，被告才能将“已经申请撤销专有权”的事实作为申请理由，向法院申请中止诉讼。

因此，对于《通知》第4条规定的内容，有进一步完善的必要，当然，也可通过最高法院的进一步解释和说明的方式，对集成电路布图设计侵权纠纷案件审理中的中止制度加以完善，使其更为科学合理。

《条例》第18条和《实施细则》第17、19、20条规定了国家知识产权局对布图设计进行初步审查的制度以及审查的内容和范围。

根据上述规定，国家知识产权局在对受理的布图设计登记申请进行初步审查的过程中，只需对申请人申请登记的对象或客体是否属于集成电路的布图设计以及是否是延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等进行审查。

经审查，除非申请人申请登记的对象或客体明显不属于集成电路的布图设计，或者明显延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等，国家知识产权局应授予该布图设计专有权，进行登记和公告。

由于审查的内容不包括申请的主体条件、时间条件和受保护的独创性条件；审查只要达到“无明显不符合”的标准即可。

因此，难以保证获得授权的布图设计全部符合授权条件。

当被告认为原告的布图设计不符合授权条件，可以根据《实施细则》第29条规定向专利复审委员会申请撤销布图设计。

而布图设计撤销程序的审理结果必将直接影响侵权案件的处理结果。

因此，笔者认为，基于目前布图设计授权登记的审查形式，在侵权案件中，为了保护被告的合法权利和维护生效判决的效力，当被告在案件审理过程中提起撤销布图设计登记的，并提供了相应证据和理由，足以动摇权利稳定性的，法院应当中止审理。

当然，为了平衡双方之间的利益，防止某些被告故意拖延诉讼，可以规定不予中止的例外情形。

这方面可以借鉴最高法院关于实用新型和外观设计专利侵权案件中适用中止的相关规定，对被告在答辩期间内提出撤销申请的，原则上应当中止诉讼，但在原告出具的鉴定报告中显示原告的布图设计包含有非常规设计，或者被告能够证明其使用的布图设计为公知设计，或者被告证明原告布图设计专有权无效的证据明显不足等情况下，受理法院可以不中止诉讼；被告在答辩期间届满后提出无效请求的，不中止诉讼，但受理法院经审查认为有必要中止的，可以中止诉讼。

3、原告(权利人)是否应负有证明其登记之布图设计权利稳定性的义务，以及独创性之释明义务？ 由于法律规定获得登记之集成电路布图设计具有专有权利，一般而言，可以认为，原告只要提供了登记证书及相关文件，就完成了举证责任，证明其拥有专有权。

然而，考虑到这种权利的获得并未经过实质审查，其法律稳定性并不是很强，因此，原告的举证责任中是否应该包含权利稳定性方面的义务，值得探讨。

一般认为，当原告提供登记和“三维配置”方面的证据就完成了举证责任，如果被告认为原告的权利不稳定，应由被告提供证据，挑战原告的独创性等。

如果这样的话，对被告而言既不合理，也非常困难。

首先，权利人控告他人侵权的前提是其享有权利，其当然负有举证之责任，虽然已有登记，但这种登记仅仅是形式上的审查，并未涉及授权的实质条件——独创性，依现行之做法，无异于将原告证明自己拥有权利的义务转移给了被告，这是不合理的；其次，要求被告证明原告的集成电路布图设计不具有独创性，将是十分困难的，倒不如要求由原告指出其设计中那些具有独创性，即明确区分独创性与非独创性的具体内容和范围，过滤掉常规设计，相当于明示其权利所在，这对于原告而言并不困难(类似于商业秘密诉讼中权利人需指明其秘密点)。

审理集成电路布图设计侵权诉讼应当与其他知识产权诉讼案件一样，始终贯彻“由权利人陈述其所请求保护的权利内容”这一基本原则， 而这样做既方便了被告进行有针对性的抗辩，也便于法院进行权利稳定性和是否侵权的判断。

在南京中院审理的布图设计侵权案件中， 原告诉前委托上海市科技咨询服务中心，就其生产的PT4115芯片是否含有不为公众所知的技术信息以及其他问题进行鉴定，该服务中心出具报告结论之一是原告“生产的PT4115芯片含有高压模块隔离环的设计等6项不为公众所知悉的技术信”，并被法院采信——法院认为原告涉案PT4115芯片具有独创性。

笔者认为，实际上，原告是在向法院明示其布图设计独创性及其所在。

4、独创性的标准和判断

集成电路布图设计保护条件

根据版权法的理念，作品受保护的实质条件是具备独创性，此外并无形式上的要求。

因此，大多数国家实行的都是自动保护的原则，作品自创作完成之日起自动享有版权。

而根据专利法的一般规则，技术方案受专利保护的实质条件是具备三性：新颖性、创造性和实用性；形式条件是必须向专利主管部门申请并接受审查。

集成电路的立法并不将版权法和专利法进行简单地相加，而是有所取舍的制定了布图设计获得保护的独特条件。

从各国集成电路立法规定的保护条件来看，布图设计受保护的条件既有版权法对作品的要求，也渗透了专利法对发明创造的要求。

《华盛顿条约》对此问题的规定颇具代表性，该《条约》第3条第2款规定：“(A)第1款a项所指义务适用于具有独创性的布图设计。

此种意义的独创性，是指它们是其创作者自己智力创造的成果，并且在创作的时候在布图设计者之间以及集成电路生产者之间不是显而易见的；(B)由显而易见的元件和集成电路的互连结合而构成的布图设计，只有当这种结合作为一个整体，符合(A)项的条件时才能受到保护。

” 值得注意的是，《华盛顿条约》虽然使用了“独创性”一词，但其含义与版权法上的“独创性”不同；此处的“独创性”一词有两层特殊的含义： (1)布图设计必须是其创作者独立创造完成的智力成果，而不能是简单的复制或者模仿他人的布图设计，在这一点上与版权法中独创性的含义相同。

(2)布图设计的局部或者布图设计的整体必须具有非常规性。

受到电路参数、产品尺寸、半导体材料结构等技术因素和物理规律的限制，集成电路的布图设计必须遵循共同的技术原理和设计规则；因此，布图设计的表现形式是有限的。

并非所有的布图设计都能受到保护，受到保护的布图设计应当是非常规的、或者非显而易见的、或者不为人所熟知的。

换言之，布图设计应当具备一定的先进性，只不过这种先进性比专利法中对创造性的要求低得多。

由此可知，复制或模仿他人的布图设计而获得的布图设计由于缺乏独创性而不能受到保护。

此外，具有独创性的常规布图设计同样也不受保护。

只有那些创作者独立创作完成，并具有一定的先进性的非常规布图设计才能获得保护。

在《华盛顿条约》之后的各国立法以及相关的国际条约中，基本都承袭了《华盛顿条约》规定的保护条件。

在欧盟制定的《关于半导体产品布图设计法律保护的理事会指令》也有类似的规定 。

集成电路布图设计保护模式

世界各国对于集成电路布图设计的保护通常采用三种模式：专利法保护、版权法保护以及专门立法保护。

但在实践中，通过专利制度或者版权制度保护集成电路布图设计都存在一定的不足，通过专门立法加以保护成为目前世界各国包括国际条约的普遍选择。

(一)专利法保护 部分国家将集成电路的布图设计作为一种可专利的技术方案，通过向集成电路的技术设计方案授以专利权的方法来进行保护。

仅从理论上分析，集成电路的布图设计实质上是一种图形设计方案，如果根据该设计生产出的集成电路产品符合专利法所规定的条件，的确可以获得专利权授权。

对于被授予专利权的集成电路产品未经专利权人许可，他人不得制造、销售、使用和进口，否则必须承担侵权的法律责任。

然而，大部分集成电路布图设计都属于对于已知电路的重新设计，在设计的时候必须遵守工程设计的基本原理、方法和规范，还必须采用相当数量通用性的常规设计；上述这些知识已进入公有领域，所以，集成电路的布图设计往往缺乏专利授权必须的新颖性。

此外，集成电路在专利法要求的创造性方面也显得力不从心。

集成电路不论其规模有多大，其布图设计的中心思想都是实现电路集成的功能。

为实现这一目的，布图设计将电路图中的多个元器件合理地分布在多个叠层中，并使其互连，形成三维配置。

因而，同类集成电路产品的布图设计方案不会有太大的变化，研制开发不过是在提高集成度、节约材料、降低能耗方面下功夫，很少具备实质性的差异，因而也很难达到专利法对创造性的要求。

何况，布图设计也只是产品的一种中间形态，没有独立的产品功能。

换言之，布图设计不同于专利法中能够直接运用的技术方案。

此外，集成电路技术更新换代相当快，技术的生命周期非常短，而专利申请与审批的时间却比较长，这也不利于集成电路技术及时获得专利法的保护。

鉴于通过专利制度保护集成电路的布图设计存在难以逾越的障碍，除需对《专利法》进一步完善外，对集成电路布图设计的保护还需其他法律部门共同调整。

(二)版权法保护 也有部分国家将集成电路的布图设计作为一种图形作品，将其纳入版权法中作品的范围，通过版权法给予保护。

典型的例子是美国1984年制定的《半导体芯片保护法案》，该法案明确采用类似版权的保护方式对集成电路进行保护，并续接到美国版权法，并将其保护客体称为“掩膜作品”，而不是简单地称为“掩膜”。

根据该法案将“掩膜作品”定义为，一套已固着或已编码的相关图象，它们(A)具有或表示半导体芯片产品各层预定出现或不出现金属、绝缘或半导体材料形成的三维空间图形；并且(B)此套图象之间的关系是每个图象在半导体芯片中都有一种形式的平面图形 。

可见，在美国集成电路作为一种单独的作品种类已经被纳入了广义版权法的保护范围。

在传统版权法的理念中，版权法的保护对象是文学、艺术和科技作品，其中也包含工程设计、产品设计图纸等图形作品。

集成电路布图设计图纸具备了独创性的要求，即受到版权法的保护，这自然是题中应有之意。

但是，单纯以版权法保护集成电路，在保护力度上显得很吃力，很难提供充分有效的保护。

从布图设计的作用来看，它与享有版权的作品明显不同。

作品的作用主要是供人欣赏，而布图设计及含布图设计的集成电路是一种电子产品，布图设计的作用不是供人欣赏，而是为了执行电子电路的功能。

也就是说，一般作品不具有功能性，而布图设计则具有鲜明的功能性。

如果不具备电子电路的功能，就不成其为布图设计。

因此，从功能性出发，不难发现布图设计与版权法中的图形作品存在本质上的不同。

即使将版权法上的作品扩大解释为包括布图设计在内，也不能有效的保护布图设计。

作品保护的方式主要通过制止他人未经权利人许可的复制，而此种方式对布图设计并没有实际的意义。

通常，针对集成电路布图设计的侵权并不是将他人的布图设计简单的复制下来，而是将他人的布图设计不法的应用到自己的集成电路中去，这个过程已远非版权法上的“复制”能够概括的。

所以，国外关于集成电路的立法以及相应的国际条约中都没有使用“copy”一词，而是使用了“reproduce”。

虽然，中国的立法和相关的学术论文中，我们仍然使用“复制”这一词语，但这种“复制”已经不再是版权法意义上的复制了。

况且，版权法只保护作品思想的表达形式，不保护作品思想本身，因此很难通过版权法保护集成电路布图设计中的技术创新和进步。

此外，版权的保护期限过长，一般为作者创作完成后的有生之年外加死后50年。

而集成电路技术更新换代的时间非常快，给予太长的保护期限容易造成技术的垄断，影响集成电路技术的借鉴与推广，限制了先进的技术在全社会范围内的共享。

因此，单纯的采用版权法来保护集成电路显然也不是一个明智的选择。

(三)专门立法保护 集成电路的特殊性决定了其保护手段的特殊性。

创设一种新的保护集成电路的专门法律制度，就成为一种必然的选择。

通过专门立法保护集成电路的布图设计，有一个显而易见的优势就在于，这种专门保护的制度能够结合了专利法保护和版权法保护的优点，又可以弥补专利法保护和版权法保护的不足。

这种做法已得到越来越多的国家和国际组织的认可，并不断有这方面的立法实践，相应的国际条约体系也逐渐成型。

美国是世界上最先对集成电路布图设计予以立法保护的国家。

美国1984年11月8日实施的《半导体芯片保护法》虽然在形式上是《美国法典》第17编版权法的最后一章，但它实际上是一个独立的体系，并不属于版权法体系。

该法对布图设计专有权的保护同时借鉴了版权法和专利法的保护条件和方法。

在欧盟，1986年12月16日通过的《关于半导体产品布图设计法律保护的理事会指令》要求各成员国自行决定采取适当的立法形式加强对集成电路布图设计的法律保护。

在欧盟内部，瑞典、英国、荷兰、德国、法国、丹麦、西班牙、奥地利、卢森堡、意大利、葡萄牙、比利时等国家都分别制定了专门的法规来保护集成电路。

在保护集成电路布图设计的国际条约中，影响力最为重要的当数1989年在华盛顿缔结的《关于集成电路的知识产权条约》(即《华盛顿条约》)和世界贸易组织各成员国签署的《与贸易有关的知识产权协议》(Trips协议)。

《华盛顿条约》是集成电路领域的有关知识产权保护的第一个国际条约，该条约的缔结标志着布图设计国际保护体系的基本形成。

由于该条约较多的反映了广大发展中国家的利益，不符合美国等发达国家提高保护水平的要求，因而受到美国等国的抵制，至今尚未生效。

但《华盛顿条约》设计的权利体系为各国集成电路的知识产权保护奠定了基础，其中的大部分条款也为后来的Trips协议所吸收。

与《华盛顿条约》相比，Trips协议作了三点重大修改：延长保护期，扩大保护范围，对善意侵权进行更加严格的限制。

该协议全面反映了发达国家加强集成电路保护水平的要求，并极大的提高了集成电路知识产权的保护水平。

中国保护集成电路的布图设计方面的立法起步比较晚，但随着中国加入世界贸易组织，中国已经根据国际公认的标准制定、颁布了一系列法规、规章和司法解释，基本确立了保护集成电路布图设计权的法律体系。

《集成电路布图设计保护条例》， 这是中国历史上第一个关于集成电路布图设计保护的行政法规，这一条例借鉴国外先进的立法经验，初步构建了一个比较完善的集成电路布图设计的保护框架。

此后，与之配套的规章也逐步健全。

2001年10月1日，国家知识产权局颁布的《集成电路布图设计保护条例实施细则》正式施行。

2001年11月28日，国家知识产权局发布的《集成电路布图设计行政执法办法》开始实施。

为了正确指导与集成电路布图设计相关的知识产权案件的审判工作，最高人民法院于2001年10月30日专门下发了《关于开展涉及集成电路布图设计案件审判工作的通知》，对管辖案件和管辖法院做出了周密的安排。

总的看来，中国已经在较短的时间内初步建立了一套符合Trips协议的要求的保护集成电路布图设计的法律体系，为集成电路布图设计的保护提供了比较完备的制度保障，中国政府已经全面履行了保护集成电路知识产权的承诺和义务。



集成电路布图设计保护司法实践中的问题 的介绍就聊到这里。


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